Polymethylmethacrylat (PMMA) ist der für optische Anwendungen am häufigsten eingesetzte transparente Thermoplast. Die Beschichtung der Oberflächen von Kunststoffoptiken ist in vielen Fällen erforderlich, um zum Beispiel die Reflexion von Grenzflächen zu vermindern (Entspiegelung), jedoch oft auch um die Kratzfestigkeit zu erhöhen. Ein etabliertes Verfahren für das Aufbringen von Interferenzschichten auf Kunststoffen ist das plasma-ionengestützte Aufdampfen (Plasma-IAD). Optiken aus PMMA kommen jedoch aufgrund der ungünstigen Haftungseigenschaften für solche Beschichtungen zum größten Teil noch unbeschichtet zum Einsatz. In den hier durchgeführten Untersuchungen wurde experimentell nachgewiesen, dass die bei einer plasma-ionengestützten Vakuumbedampfung (Plasma-IAD) auf das Substrat einwirkenden Teilchen- bzw. Strahlungsemissionen die Schichthaftung auf PMMA bestimmen. Es konnte gezeigt werden, dass neben dem 'direkten' Plasmakontakt vor allem Vakuum-UV-Strahlung, die von einem solchen Niederdruckplasma emittiert wird, verantwortlich für die Abnahme der Haftfestigkeit ist. Mittels XPS-Analysen war es möglich, den Effekt einer Modifizierung der PMMA-Oberfläche durch emittierte VUV-Strahlung zu belegen. Erstmals wurde außerdem nachgewiesen, dass auch die bei der Verdampfung des Schichtmaterials durch Elektronenstrahl-Verdampfer freiwerdende Strahlung ebenfalls zu einer Verringerung der Schichthaftung führt. Unter Berücksichtigung der Ergebnisse dieser Untersuchungen wurden praxistaugliche Beschichtungsprozesse und Schichtsysteme für die Entspiegelung von Polymethylmethacrylat entwickelt. Es konnte gezeigt werden, dass eine hohe Haftfestigkeit unabhängig von der Art der Schichtmaterialien nur dann erreicht wird, wenn die Schichtherstellung durch thermisches Verdampfen mittels Widerstandsheizung und unter Ausschluss von Plasmaquellen erfolgt. Gelingt unter diesen Bedingungen die Herstellung einer Schicht, die VUV-Strahlung in ausreichendem Maße absorbiert, kann diese als Schutzschicht gegen Emissionen aus dem weiteren Beschichtungsprozess dienen. Nachfolgende Schichten können dann durch Elektronenstrahl verdampft und durch Plasmaeinwirkung verdichtet werden, ohne dass die Haftfestigkeit des gesamten Schichtsystems verringert wird.
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