Polycarbonat ist einer der attraktivsten Polymerwerkstoffe für optische Komponenten, jedoch benötigt er für diese Anwendungen eine Beschichtung z.B. zur Reflexionsminderung oder zur Erhöhung der Kratzfestigkeit. Der derzeitige Stand der Technik hinsichtlich der optischen Beschichtung von Polycarbonat mittels plasmaunterstützter Aufdampfverfahren weist zwei wichtige Probleme auf: Unzulänglichkeiten in der Schichthaftung und die UV-Sensitivität der Oberflächen. Das Ziel dieser Arbeit war deshalb die Realisierung einer Antireflex- Beschichtung auf Bisphenol-A Polycarbonat unter Verbesserung der Schichthaftung sowie der Integration einer UV- Schutzwirkung in das optische Schichtsystem. Die angewandte Beschichtungstechnologie ist die plasmaunterstützte Vakuumbedampfung (Plasma-IAD). An den in dieser Arbeit untersuchten Schichtsubstanzen (SiO2, TiO2, Nb2O5, Ta2O5, ZrO2) konnte gezeigt werden, dass eine starke Verdichtung der Schichten durch den Einsatz einer hohen Plasmaenergie im Beschichtungsprozess zum Haftversagen der Schichten auf Polycarbonat führt. An den Trennstellen enthafteter Schichten fanden sich mittels XPS- und TOF-SIMS- Analysen deutliche Anzeichen von Kettenbrüchen, der Ort des Haftversagen befindet sich unterhalb von weak boundery layers. Aus den Haftfestigkeitsuntersuchungen wird geschlussfolgert, dass sich bei der Anbindung des Schichtmaterials an die Polycarbonatoberfläche durch das Plasma-IAD-Verfahren vorrangig kovalente Bindungen bilden. Der UV-Schutz von Polycarbonat beinhaltet neben dem Schutz vor Vergilbung des Werkstoffes vor allem auch den Schutz vor UV-bedingtem Haftversagen an vor der Exposition sehr gut haftenden Schichten. Offenbar sind alle Wellenlängen unterhalb von 400 nm an Luft grundsätzlich in der Lage, ein nachträgliches Haftversagen der Schichten auszulösen. Aufgrund ihrer spektralen Absorption ist keine der untersuchten hochbrechenden Schichtsubstanzen in der Lage, allein die Schutzwirkung gegen die UV-induzierte Haftungsschädigung der Schichten auf Polycarbonat zu gewährleisten. Deshalb wird als Alternative im Bereich der optischen Beschichtungen die Anwendung eines Bandpass-Designs vorgeschlagen, welches durch eine Erhöhung der Reflexion im kurzwelligen Bereich unterhalb von 400 nm eine mangelnde Absorption ausgleicht.
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